Wafer-Scale Demonstration of BEOL-Compatible Ambipolar MoS2 Devices Enabled by Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition
FI: 8,2
Tipo: Article
Artículo original
Año: 2025
Autores
Martínez, A; Márquez, C; Lorenzo, F; Gutiérrez, F; Caño-García, M; Avila, J; Gil, JCG; Lopez, RO; Navarro, C; Donetti, L; Gámiz, F
Revista
Título: ACS APPLIED MATERIALS & INTERFACES
Cuartil
- Q1